基于180nm工艺的SoC芯片设计DRC验证分析

2023.08.06点击:

摘要:阐述一款SoC芯片在180nm工艺中的DRC验证流程和方法,探讨使用后端设计工具Innovus导出GDSII数据时MapFile文件的设置、DummyMetal的添加、GDSII数据的合并,最终通过Calibredrv打开GDSII数据,查看DRC结果,提出修复DRC错误的方法。

关键词: 集成电路设计;DRC验证;GDSII;Dummy;

专辑: 信息科技

专题: 无线电电子学

分类号: TN402

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